Gemeinsam in die Zukunft
Bei uns stehen Sie im Mittelpunkt. Denn nur mit Ihrer Hilfe können wir auch zukünftig den hohen Erwartungen unserer Auftraggebenden gerecht werden.

Wir konzentrieren uns auf eine Personalentwicklung, die Ihre einzigartigen Stärken und Potenziale in den Mittelpunkt rückt. Bei uns zählen nicht nur Ihre fachlichen Qualifikationen, sondern auch Ihre persönliche Weiterentwicklung, abgestimmt auf Ihre individuellen Bedürfnisse.
Wir bieten ein vielfältiges Entwicklungsprogramm, das Ihre Karriere gezielt fördert. Das fängt bereits mit Ihren ersten Stunden bei DMT durch unser Onboarding-Programm an. Regelmäßige Orientierungs- und Entwicklungsgespräche sowie flexible Weiterbildungsmöglichkeiten unterstützen Sie dabei, Ihre persönlichen Ziele zu erreichen.
Sobald wir miteinander feststellen, dass Sie Teil von DMT werden, stehen Ihnen Ansprechpersonen zur Seite, die Sie bei allen Fragen und Anliegen unterstützen. Während Ihrer Einarbeitungsphase begleiten Sie ein Fach-Mentor oder eine Fach-Mentorin, ein Mentor oder eine Mentorin aus dem Personalwesen sowie ein Teammitglied. Regelmäßiger Austausch ist entscheidend, damit Sie sich schnell bei DMT einleben.
In Ihrer Onboardingphase lernen Sie die wichtigsten Schnittstellen bei DMT kennen, auch außerhalb Ihres Einsatzbereichs. Unser regelmäßiger Stammtisch für neue Kolleginnen und Kollegen hilft Ihnen, ein DMT-Netzwerk aufzubauen.
Ihr individuell gestalteter Einarbeitungsplan dient in den ersten sechs Monaten als Orientierungshilfe. Regelmäßige Gespräche mit Ihren Mentoren und Mentorinnen sowie die Teilnahme an der konzernweiten Einführungsveranstaltung ergänzen unser Programm.

Um Sie auf Ihrem Weg bei DMT optimal unterstützen zu können, begleiten wir Ihre Entwicklung. Feedback-Gespräche und flexible Weiterbildungsmöglichkeiten bilden den optimalen Rahmen, um fachlich und menschlich weiterzukommen. Zudem bieten wir Mentoringprogramme an, die Teil unseres umfassenden Leistungsspektrums sind und Ihnen helfen, Ihre Kompetenzen und Erfahrungen zu erweitern.


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